ဇင့်သံမဏိဆန်ခါအပေါ်ယံပိုင်း၏အထူကို ထိခိုက်စေသောအချက်များမှာ အဓိကအားဖြင့်- သံမဏိဆန်ခါ၏သတ္တုဖွဲ့စည်းမှု၊ သံမဏိဆန်ခါ၏မျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု၊ သံမဏိဆန်ခါရှိ ဆီလီကွန်နှင့် ဖော့စဖရပ်ပါဝင်မှုနှင့် တက်ကြွသောဒြပ်စင်များဖြန့်ဖြူးမှု၊ သံမဏိဆန်ခါ၏အတွင်းပိုင်းဖိစီးမှု၊ သံမဏိဆန်ခါလုပ်ငန်းခွင်၏ဂျီဩမေတြီအတိုင်းအတာ၊ နှင့် သံမဏိဆန်ခါပူအောင်ပြုလုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်။ လက်ရှိ နိုင်ငံတကာနှင့် တရုတ်ရေပူစိမ်ထားသော သွပ်ရည်စိမ်စံများကို ပန်းကန်ပြား၏ အထူအလိုက် အပိုင်းများခွဲထားသည်။ ဇင့်အပေါ်ယံပိုင်း၏ ပျမ်းမျှအထူနှင့် ဒေသအထူသည် သွပ်အပေါ်ယံပိုင်း၏ တိုက်စားမှုဆန့်ကျင်ခြင်းစွမ်းဆောင်ရည်ကို ဆုံးဖြတ်ရန် သက်ဆိုင်ရာအထူသို့ ရောက်ရှိသင့်သည်။ ကွဲပြားခြားနားသောအထူ၏သံမဏိဆန်ခါလုပ်ငန်းအချပ်များအတွက်အပူမျှတမှုနှင့်သွပ်-သံလဲလှယ်မျှခြေရရှိရန် လိုအပ်သောအချိန်သည် ကွဲပြားသည်၊၊ ဖွဲ့စည်းထားသော coating ၏အထူသည်လည်းကွဲပြားပါသည်။ စံတွင်ရှိသော ပျမ်းမျှအပေါ်ယံအထူသည် အထက်ဖော်ပြပါ သွပ်ရည်စိမ်စက်ကို အခြေခံ၍ စက်မှုထုတ်လုပ်မှုအတွေ့အကြုံတန်ဖိုးဖြစ်ပြီး၊ ဒေသအထူသည် ဇင့်အပေါ်ယံပိုင်းအထူ၏ မညီမညာသော ဖြန့်ဖြူးမှုနှင့် အပေါ်ယံပိုင်း၏ ချေးခံနိုင်ရည်လိုအပ်ချက်များကို ထည့်သွင်းစဉ်းစားရန် လိုအပ်သော အတွေ့အကြုံတန်ဖိုးဖြစ်သည်။ ထို့ကြောင့်၊ ISO စံနှုန်း၊ အမေရိကန် ASTM စံနှုန်း၊ ဂျပန် JS စံနှုန်းနှင့် တရုတ်စံနှုန်းများသည် ဆင်တူသည့် သွပ်ပြားအထူအတွက် အနည်းငယ်ကွဲပြားသော လိုအပ်ချက်များရှိသည်။ တရုတ်ပြည်သူ့သမ္မတနိုင်ငံ ၏ hot-dip galvanizing standard GB B 13912-2002 ၏ပြဌာန်းချက်များအရ။ သွပ်ရည်ပူစတီးလ်ဆန်ခါထုတ်ကုန်များအတွက် ဇင့်အပေါ်ယံစံနှုန်းများမှာ အောက်ပါအတိုင်းဖြစ်သည်- အထူ 6 မီလီမီတာ သို့မဟုတ် ညီမျှသော အထူ သို့မဟုတ် 6mm ထက်ကြီးသော hot-dip သွပ်ရည်စိမ်သံမဏိဆန်ခါများအတွက်၊ hot-dip သွပ်ရည်စိမ်သံမဏိဆန်ခါပေါ်ရှိ ပျမ်းမျှသွပ်ပြားအထူသည် 85 microns ထက် ပိုသင့်ပြီး ဒေသအထူ 70 microns ထက် ပိုသင့်သည်။ အထူ 6 မီလီမီတာနှင့် 3 မီလီမီတာအောက် အထူရှိသော သွပ်ရည်စိမ်သံမဏိဆန်ခါများအတွက်၊ ပူပြင်းသောသွပ်ရည်စတီးဆန်ခါပေါ်ရှိ ပျှမ်းမျှသွပ်ပြားအထူသည် 70 မိုက်ခရိုရွန်ထက် ပိုသင့်ပြီး ဒေသအထူ 55 မိုက်ခရိုထက် ပိုသင့်သည်။ အထူ 3 မီလီမီတာနှင့် 1.5 မီလီမီတာထက်များသော အထူ 3mm အောက်နှင့် 1.5mm ထက်များသော hot-dip သွပ်ရည်စိမ်သံမဏိဆန်ခါများအတွက်၊ hot-dip သွပ်ရည်စိမ်သံမဏိဆန်ခါပေါ်ရှိ ပျမ်းမျှသွပ်ပြားအထူသည် 55 microns ထက်များသင့်ပြီး ဒေသအထူသည် 45 microns ထက် ပိုသင့်သည်။
hot-dip galvanizing coating အထူ၏အခန်းကဏ္ဍနှင့်သြဇာလွှမ်းမိုးမှု
သံမဏိဆန်ခါပေါ်ရှိ hot-dip galvanized coating ၏အထူသည် သံမဏိဆန်ခါ၏ သံမဏိဆန်ခါ၏ သံချေးတက်ခြင်းကို ဆန့်ကျင်သည်။ အသုံးပြုသူများသည် စံနှုန်းထက် ပိုမိုမြင့်မားသော သို့မဟုတ် နိမ့်သော သွပ်ပြားအထူကို ရွေးချယ်နိုင်သည်။ မျက်နှာပြင် ၃ မီလီမီတာအောက် ချောမွေ့သော သံမဏိဆန်ခါများ ထုတ်လုပ်မှုတွင် ပိုထူသော အပေါ်ယံလွှာကို ရရှိရန် ခက်ခဲသည်။ ထို့အပြင်၊ သံမဏိဆန်ခါပြား၏အထူနှင့်အချိုးမညီသောသွပ်အလွှာအထူသည် အပေါ်ယံနှင့်အလွှာကြားရှိ ဆက်စပ်ခိုင်ခံ့မှုနှင့် အပေါ်ယံမျက်နှာပြင်အရည်အသွေးတို့ကို ထိခိုက်စေမည်ဖြစ်သည်။ ထူထပ်လွန်းသော တိမ်များသည် အပေါ်ယံအလွှာကို ကြမ်းတမ်းပြီး အခွံခွာရန် လွယ်ကူစေသည်။ သယ်ယူပို့ ဆောင်ခြင်းနှင့် တပ်ဆင်ခြင်း ကာလအတွင်း ချထားသည့် သံမဏိဆန်ခါများသည် တိုက်မိခြင်းများကို မခံနိုင်ပါ။ သံမဏိဆန်ခါ၏ကုန်ကြမ်းများတွင် ဆီလီကွန်နှင့် ဖော့စဖရပ်များ ပိုမိုတက်ကြွစွာပါဝင်နေပါက၊ စက်မှုလုပ်ငန်းထုတ်လုပ်မှုတွင် ပိုမိုပါးလွှာသော coating ရရှိရန်မှာလည်း အလွန်ခက်ခဲပါသည်။ အဘယ်ကြောင့်ဆိုသော် သံမဏိတွင်ရှိသော ဆီလီကွန်ပါဝင်မှုသည် ဇင့်နှင့်သံကြားရှိ အလွိုင်းအလွှာ၏ ကြီးထွားမှုပုံစံကို ထိခိုက်စေသောကြောင့် (၊ အဆင့်သွပ်-သံသတ္တုစပ်အလွှာကို လျင်မြန်စွာကြီးထွားလာစေပြီး (အလွှာ၏မျက်နှာပြင်အထိ၊ ကြမ်းတမ်းပြီး မှိုင်းသောအလွှာကိုဖြစ်ပေါ်စေကာ မီးခိုးရောင်အပေါ်ယံပိုင်းဖွဲ့စည်းမှုတွင် ကပ်တွယ်မှုညံ့ဖျင်းသောမီးခိုးရောင်အလွှာကို ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။ ထို့ကြောင့် အထက်တွင်ဖော်ပြထားသည့်အတိုင်း၊ မကြာခဏဆိုသလိုပင် သံမဏိအလွှာတစ်ခု၏ ကြီးထွားမှုအတိုင်းအတာအတွက် မသေချာမရေရာမှုများရှိနေပါသည်။ အမှန်တကယ်ထုတ်လုပ်မှုတွင် coating thickness သည် သံမဏိဆန်ခါအတွက် hot-dip galvanizing စံတွင်ဖော်ပြထားသောအထူသည် အမျိုးမျိုးသောအချက်များနှင့်လိုအပ်ချက်များကိုထည့်သွင်းစဉ်းစားပြီး စမ်းသပ်မှုများအပြီးတွင် ထုတ်ပေးသည့် empirical value တစ်ခုဖြစ်သည်။
စာတိုက်အချိန်- သြဂုတ်-၁၉-၂၀၂၄